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PVD的孔径比及绕镀性- aspect ratio

01 什么是PVD的孔径比 #

孔径比(厚径比,纵横比),aspect ratio。PVD真空镀膜的经验数值,孔深:孔径<1:1,及孔深值不能大于孔径,否则很难镀上。越深膜越浅,且不同的涂层种类和工艺深度不一样。但总体而言,PVD不适合镀内孔。通常在孔径小于6mm,内孔里面就很难镀到;相反,孔径越大,能镀进入的概率越大。

通过二维旋转挂具,可以改善深孔镀膜效果。如下图,当二维旋转时,孔的两端都可以被镀上,越往深孔的中间,膜层越薄,或者镀不上。

PVD孔径比-射线法则

PeCVD的绕镀性好于PVD,但是依然不适合镀深孔。PeCVD的DLC齿轮,内壁明显出现炫彩。DLC膜厚低于1微米时,会出现明显的彩色。而且随着膜厚不同,呈现的颜色也不同。

DLC黑色齿轮

 

02 氮化钛涂层优秀的绕镀性 #

PVD氮化钛涂层,特别是在开槽零件时,可以明显突破孔径比1:1法则。对于下图这类开槽的零件,可以看见仅最里面的拐角处有明显发白,其它颜色都比较均匀。纳狮通常使用复合黄钛,及打底层和中间层有1-2微米,而氮化钛不超过1.5微米。因此,如果延长镀膜时间,则此类两边开槽的工件,是可以镀上的。

氮化钛优秀的绕镀性

03 真空镀膜的内孔工艺 #

国内已经有最高16:1的PVD深孔镀膜机,打样费2万一炉,灵兮没有机会尝试。传说已经量产。但是中国工业更喜欢便宜量大的产业,及规模优势,诸如此类的小众镀膜机市场有限。真空镀膜技术中,CVD及其延伸如LPCVD等化学气相沉积工艺,都可以镀内孔,及气体能到的区域都能镀到。但是内控的膜厚依然只有外壁的一半左右。且通常与传统PVD的应用场景不相同。

04 PVD氮化钛涂层的模具案例 #

电子枪PVD适合做模具涂层,表面无液滴,膜致密,绕镀性好,为纳狮镜面模具涂层工艺之一。