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MaaxCoting MX850 PVD真空镀膜机
MaaxCoting MX850 PVD真空镀膜机

MaaxCoting MX850 PVD真空镀膜机

 

MaaxCoating多年沉浸于研究等离子技术, 开发出了符合国际最高标准的PVD功能性硬质涂层设备。 并根据客户工件的特性需求设计了多种预处理方法,在涂覆前采用SET, MET等刻蚀工艺,大幅提升涂层的结合力,确保涂层质量的稳定性、一致性。

技术优势

  • 基于APC电弧技术
  • SET刻蚀技术
  • 较高镀率,可实现多层纳米复合结构涂层

 

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MaaxCoating MX系列镀膜机中文型录-2020

 

——MX850,高效生产,灵活定制

 

高度灵活的定制涂层设备

根据客户应用需求,提供多种尺寸、多种硬件配置、各种离子源技术的PVD涂层设备。

高度灵活的涂层设备

SET刻蚀模块

侧面氢离子体清洗系统确保涂层有效区域刻蚀均匀性为士10%,刻蚀速率250nm/h, 有效祛除基体材料表面微氧化层, 增强涂层与基材结合力。

APC阴极模块

可调式磁场设计, 确保更高的靶材利用率。 拥有更快的弧斑跑动速度, 较小的弧光斑点, 较高的离化率, 较小的液滴。 更利千低熔点靶材的离化, 尤其适用千AlCrN基涂层制备。

软硬件加速,降低成本

  • 参考涂层时间:低于1小时完成3μm TiAlN
  • 键操作,从炉体升温,抽真空,清洗,镀膜,降温智能完成
  • 多类型挂具,高效加工常规刀具和模具
  • 磁悬浮分子泵,缩短抽真空时间,并保证真空度
  • 双清洗系统,保证了高效的刻蚀速率和均匀性
  • 高功率快速加热系统,缩短加热时间高能离子源,大幅提升涂层沉积速率氮气+可调温高纯冷却水,双循环快速冷却大尺寸工件

针对刀具&模具的涂层性能优化

  • 独特的离子溅镀技术,纳米级直径粒子,能够很好的保持模具的镜面与蚀纹效果的同时,拥有高附着力
工艺技术 离子蒸镀 溅射镀 多弧镀(电弧镀) 离子溅镀
 粒子直径
镜面效果 良好 一般 良好
粒子能量
附着力
涂层种类

 

  • 涂层数据库,针对不同类别产品甚至不同大小,定制不同涂层和制程
  • 非常熟悉中国材料和应用环境
  • 大量为客户应用开发的定制涂层

技术规格

  • 占地尺寸(mm):长4500 x 宽2200 x 高2522mm
  • 涂层有效容积:φ680mm x(H)850mm
  • 最大负荷量:800kg
  • 电弧阴极数:12个
  • 参考涂层时间:低于1小时完成3μm TiAlN

设备炉量

铣  刀 刀  片 滚齿刀
D4 x 50L 3,870 Pieces R12 14,180 Pieces D80 x 180L 51 Pieces
D6 x 50L 3,542 Pieces R16 10,769 Pieces
D8 x 75L 2,550 Pieces

 

 

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