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Intelligent leadership in industrial upgrading
可调式磁场设计，确保更高的靶材利用率。拥有更快的弧斑跑动速度，较小的弧光斑点，较高的离化率，较小的液滴，更利于低熔点靶材的离化。
双刻蚀技术，大幅提升结合力：
基于超过 20 年的持续运行和改进，Naxau 已经开发了一种专利的等离子体刻蚀技术 SET© 和 CET© 。在镀膜之前，对工具表面进行适当的刻蚀以达到清洁和活化的界面，对于成功的涂层结果至关重要。刻蚀需要去除表面污染物，如金属氧化物、水汽、微油和汗液碎片等。刻蚀也可以重新激活表面，打开分子链，促使涂层过程中离子键结合。
turnkey project
一站式提供真空镀膜设备、涂层工艺、外围生产设备建议、人员培训、厂房规划等全套涂层厂量产方案。
纳狮真空镀膜设备，是业界最可靠的生产输出之一。多种等离子体沉积技术可以在一台设备上复合使用。
纳狮真空镀膜加工-Naxau AM
