磁控溅射-双磁控和中频磁控溅射

参考：高沉积速率和靶材利用率对于工业过程非常重要。尽管磁控管阴极的沉积速率相对较高，但不如蒸发过程的沉积速率高（在先前的博客中已解决）。双磁控管/脉冲磁控管配置既可实现高沉积速率，又可提高材料利用率[1,2,3]。双磁控溅射使用中频（〜40 kHz – 300 kHz）...