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HPPMS大功率脉冲磁控溅射PVD涂层技术
2820参考: 高功率脉冲磁控溅射(HPPMS),也称为高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)是基于磁控溅射沉积的PVD涂层技术。HPPMS利用kW / cm 2量级的极高功率密度在小于10%的低占空比(开/关时间比)下,以数十微秒的短脉冲(脉冲)为单位。HPPMS的显着特征是溅射金属的高度电离...
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参考: 高功率脉冲磁控溅射(HPPMS),也称为高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)是基于磁控溅射沉积的PVD涂层技术。HPPMS利用kW / cm 2量级的极高功率密度在小于10%的低占空比(开/关时间比)下,以数十微秒的短脉冲(脉冲)为单位。HPPMS的显着特征是溅射金属的高度电离...
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