刻蚀模块 2021年2月3日 3496 SET刻蚀模块MET刻蚀模块侧面氩离子体清洗系统确保涂层有效区域刻蚀均匀性为±10%, 刻蚀速率250nm/h,有效祛除基体材料表面微氧化层,增强涂层与基材结合力。 金属刻蚀可以增强硬质涂层与基材结合力。通过调整阴极磁场设计,确保阴极在低电流条件下工作,控制金... 查看全文